半导体工业纯水制取用的是反渗透工艺还是去离子

责任编辑:恒大兴业人气:183发表时间:2023-10-10 15:37:03【

半导体工业通常使用高纯度水,以确保半导体器件的生产质量和性能。在半导体工业中,常用的水质处理工艺包括反渗透(RO)和去离子(DI)工艺,这两种工艺通常结合使用,以获得超高纯度水(UPW,Ultra-Pure Water)。

恒大兴业环保分析,半导体工业的高纯度水制备通常按照以下步骤进行:

反渗透(RO)处理:

RO工艺用于去除水中的大部分溶解物质和离子。RO膜是半透膜,可以阻止大多数离子和溶解物质通过,从而提高水的纯度。

RO处理通常能够去除大多数溶解的离子、有机物和微生物。

半导体纯水设备

去离子(DI)处理:

DI工艺是进一步提高水质的步骤,通过去除剩余的离子和溶解物质来生成高纯度水。

常见的DI工艺包括混床离子交换,其中带有阳离子和阴离子交换树脂的混床用于去除残余的离子,确保水的纯度达到要求。

附加处理:

在RO和DI工艺之后,可能会使用一些其他处理步骤,如活性炭过滤、微生物控制和在线监测,以确保超高纯度水的质量和稳定性。

半导体工业需要极高纯度的水,因为微小的杂质可以对半导体器件的制造和性能产生重大影响。因此,RO和DI工艺通常结合使用,以生成符合半导体工业要求的高纯度水。这种高纯度水不仅用于洗涤和清洗半导体器件,还用于蚀刻、光刻、电镀等关键工艺步骤。


 
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