半导体行业应用超纯水设备案例分享
一、半导体行业超纯水设备介绍
超纯水通常指的是电阻率能够达到18 MΩ*cm的水,是既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。
半导体行业中的超纯水,又名UP水,主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升,使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。
起初是美国科技界为研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水,如今已广泛应用在生物、医药、汽车等领域。
超纯水制备主要包括以下三个阶段,即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。
二、半导体行业超纯水设备工艺原理
EDI出水+抛光树脂(阴阳离子吸附超纯水设备)
其中,离子交换即是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离子交换,水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换,从而达到纯化水的目的。具体说来主要有以下步骤:
1、原水:可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。
2、预处理系统:原水箱、原水泵、杀菌剂、石英砂过滤器、活性炭过滤器、换热器、阻垢剂系统。
3、双级反渗透系统:保安过滤器、高压泵RO、反渗透系统。反渗透膜可滤除95%以上的电解质和大分子化合物,包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除,使离子交换柱的使用寿命大大延长。
4、EDI系统:EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程,将水的电阻率从0.05~1.0MΩ·cm提高到5~16MΩ·cm。
5、抛光树脂:无化学析出的核子级树脂,去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质,使水质达到18MΩ·cm以上。
6、终端超滤:能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙,确保产出的高纯水不受二次污染。
三、半导体行业超纯水设备项目概况
根据半导体行业的业主具体需求,结合项目整体实际情况,采用EDI+超纯水抛光树脂工艺,灵活运用离子交换技术,利用两端电极高压使水中带电离子移动,并配合离子交换树脂加速离子移动去除,达到超纯化水目的。